2026半导体材料发展(无锡)论坛

为加强产业链上下游合作,助力半导体材料与设备产业高质量发展,中国电子材料行业协会半导体材料分会将举办本场活动。本论坛将围绕硅、磷化铟、碳化硅、氧化镓、金刚石等半导体材料,深入探讨如何通过技术突破、产业链协同、政策赋能和新生态融合,构建从材料研发、器件制造到应用落地的完整产业生态。

2026半导体材料发展(无锡)论坛
会议时间 09:30-12:00
会议地点 无锡太湖国际博览中心A6馆
  • 氮化铝超宽禁带半导体材料发展现状及趋势研究
    解楠
    中国电子信息产业发展研究院 集成电路研究所 化合物半导体研究室主任
  • 应用导向的晶片材料技术
    李文中
    上海合晶硅材料股份有限公司首席技术官、副总经理
  • 集成电路大硅片的发展趋势
    张俊宝
    上海超硅半导体股份有限公司总监
  • 磷化铟衬底介绍
    任殿胜
    北京通美晶体技术股份有限公司技术总监
  • 高质量大尺寸氧化镓衬底晶圆的进展与挑战
    张辉
    杭州镓仁半导体有限公司董事长
  • 晶圆级金刚石研究进展
    兰飞飞
    中国电子科技集团公司第四十六研究所研究员、专家
大会特邀嘉宾
解楠
中国电子信息产业发展研究院 集成电路研究所 化合物半导体研究室主任
李文中
上海合晶硅材料股份有限公司首席技术官、副总经理
张俊宝
上海超硅半导体股份有限公司总监
任殿胜
北京通美晶体技术股份有限公司技术总监
张辉
杭州镓仁半导体有限公司董事长
兰飞飞
中国电子科技集团公司第四十六研究所研究员、专家