刻蚀技术、制程及设备专题研讨会
当前全球刻蚀技术向高选择性、高均匀性、超低损伤、三维立体刻蚀方向升级,国产刻蚀设备在介质刻蚀、硅刻蚀等领域已实现突破,但先进制程程良率、稳定性、核心零部件仍需持续优化。
主要内容:
(1)全球先进刻蚀技术路线与未来 3-5 年演进趋势
(2)7nm/5nm 先进制程刻蚀制程难点与解决方案
(3)国产刻蚀设备产业化应用案例与良率提升实践
(4)刻蚀设备核心零部件国产化替代路径
(5)晶圆厂与设备厂联合研发、制程协同优化经验分享
当前全球刻蚀技术向高选择性、高均匀性、超低损伤、三维立体刻蚀方向升级,国产刻蚀设备在介质刻蚀、硅刻蚀等领域已实现突破,但先进制程程良率、稳定性、核心零部件仍需持续优化。
主要内容:
(1)全球先进刻蚀技术路线与未来 3-5 年演进趋势
(2)7nm/5nm 先进制程刻蚀制程难点与解决方案
(3)国产刻蚀设备产业化应用案例与良率提升实践
(4)刻蚀设备核心零部件国产化替代路径
(5)晶圆厂与设备厂联合研发、制程协同优化经验分享