薄膜沉积技术、制程及设备专题研讨会
随着先进制程推进，薄膜向超薄、均匀、无缺陷、高一致性发展，ALD 等先进技术成为刚需，国产薄膜沉积设备在成熟制程批量应用，先进制程设备仍需加快突破。
主要内容：
(1)先进制程薄膜材料需求与沉积技术创新方向
(2)PVD/CVD/ALD 设备技术迭代与性能升级
(3)大尺寸晶圆薄膜沉积制程控制与良率管理
(4)国产薄膜沉积设备在先进封装与功率器件中的应用
(5)设备-材料-制程联动创新与供应链安全建设
薄膜沉积技术、制程及设备专题研讨会
薄膜沉积技术、制程及设备专题研讨会
| 会议时间 | 9月1日 星期二 13:30-17:10 |
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| 会议地点 | 无锡太湖国际博览中心A6馆 |
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